반도체 세정 장비 기술을 중국에 유출한 혐의로 지난 2월 징역형을 선고받은 삼성전자 자회사 전 직원이 또 다른 기술 유출 혐의로 1심에서 징역형을 선고받았다.

수원지방법원은 오늘 국가핵심기술인 '초임계 반도체 세정 장비' 제조 기술을 중국에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 세메스 전 직원 남모 씨에게 징역 5년에 벌금 5억 원을 선고했다.

또 남씨가 세메스에서 퇴직한 뒤 설립한 반도체 장비제조업체에도 벌금 10억 원을 내라고 주문했다.

재판부는 "기술 유출 범죄를 가볍게 처벌하면, 해외 경쟁업체가 우리나라 기술을 손쉽게 탈취하는 결과를 낳을 것이라면서, 피해 회사가 엄벌을 바라고 있다며 양형 이유를 밝혔다.

재판부는 이와 함께 범행에 가담한 세메스 협력사 대표와 기술 유출 브로커 등 4명에게도 징역 2년에서 4년을 선고하고, 각각 벌금 3백만 원에서 3억 원을 내라고 판결했다.

남씨는 재작년 6월 세메스가 세계 최초로 개발한 '초임계 반도체 세정 장비' 핵심 도면을 빼돌려 중국에 유출한 혐의로 구속 상태로 재판에 넘겨졌다.